【杭州水處理設(shè)備網(wǎng)www.yiwujoy.com.cn】文摘:石灰石-石膏濕法脫硫漿中氯離子濃度高是一個(gè)常見的問題。污水排放的氯離子濃度受發(fā)電廠的限制。本文分析了脫硫吸收劑漿液濃度的主要來源，分析了電廠脫硫漿濃度、氯離子濃度和廢水排放的歷史數(shù)據(jù)。通過對(duì)某發(fā)電廠的使用情況進(jìn)行分析，控制了吸收體的漿液密度，調(diào)整了旋渦砂漿口孔徑、石膏漿液置換法，控制了吸收劑漿液氯離子濃度的作用，減輕了脫硫廢水的排放約束問題工業(yè)純水設(shè)備。

關(guān)鍵詞:脫硫裝置、氯離子廢水系統(tǒng)、數(shù)據(jù)分析、漿液密度、砂嘴漿液置換。

氯離子在脫硫漿中的成因及危害。

煤含有0.01% - 0.2%氯與燃燒后煙氣脫硫裝置,由于水循環(huán)使用脫硫單元,氯離子的吸收塔漿濃度,逐漸將導(dǎo)致吸收砂漿氯離子濃度超標(biāo)嚴(yán)重,不僅影響石膏的質(zhì)量,也會(huì)導(dǎo)致脫硫效率下降,增加污染的石膏可以加快脫硫設(shè)備損壞和腐蝕,直接威脅和平的脫硫裝置穩(wěn)定、經(jīng)濟(jì)運(yùn)行。因此，脫硫裝置采用脫硫廢水處理系統(tǒng)，其目的是通過一定量的廢水，降低吸收料漿中氯離子濃度和重金屬離子濃度，提高吸收體漿液的質(zhì)量。

介紹了脫硫污水處理系統(tǒng)。

電廠脫硫裝置采用化學(xué)沉淀法，包括廢水處理系統(tǒng)、化學(xué)添加劑系統(tǒng)、污泥處置系統(tǒng)和污水處理系統(tǒng)工業(yè)純水設(shè)備。其核心機(jī)制是三聯(lián)箱:中和箱、沉淀箱和絮凝箱。采用中和法、絮凝法、沉淀法對(duì)脫硫廢水處理系統(tǒng)中的廢水進(jìn)行處理，將廢水的處理應(yīng)用于煤田噴淋，污泥餅由廢水處理系統(tǒng)輸送。當(dāng)吸收體中氯離子濃度達(dá)到16000mg/l時(shí)，采用了廢水處理系統(tǒng)。處理后排出的廢水:濁度NTU小于或等于70;PH值6 - 9;CODCrmg/l小于或等于100年。脫硫后，廢水、濁度和PH值均在合格范圍內(nèi)，COD相對(duì)較高，在100-800之間，在調(diào)整劑量后很難達(dá)到標(biāo)準(zhǔn)的排放值工業(yè)純水設(shè)備

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3所示。濕法脫硫塔漿中氯離子濃度高的分析。

A)分析吸收器中氯離子的來源。

1。分析了脫硫裝置中氯離子的總來源水處理設(shè)備。首先，分析了氯離子濃度的總來源:煤燃燒中含氯元素的0.01% -0.2%隨煙氣進(jìn)入脫硫裝置;脫硫工藝水，工業(yè)用水200-500 mg/l氯離子濃度，可以看出氯離子吸收塔并不是從工藝水到脫硫裝置，其來源主要是通過煙氣進(jìn)入脫硫裝置實(shí)驗(yàn)室純水設(shè)備。

2脫硫和吸收塔氯離子濃度高。主要用于回收脫硫裝置的水，使氯離子在吸收料漿中逐漸富集。電廠脫硫系統(tǒng)的配置和運(yùn)行主要有以下三個(gè)方面:

1。石膏旋流器的廢水渦流(吸收塔)流動(dòng)。

2。真空帶脫水機(jī)底過濾水(水過濾器、濾布沖洗水、真空泵抽排、帶封水) 水處理設(shè)備;

3所示。排水及其他入水(每臺(tái)泵、風(fēng)機(jī)冷卻水、機(jī)器密封水、管道沖洗水、煙氣排水、濕脫水;濾水坑、吸收塔坑、煙道坑、事故漿池排放、脫硫裝置表面清潔水等。

3所示。氯離子的各種來源對(duì)脫硫裝置中吸收氯離子濃度的影響。在各種水源中攜帶氯離子和煙氣脫硫裝置，通過各種循環(huán)水泵返回吸收池系統(tǒng)，在氯離子濃度引起的系統(tǒng)內(nèi)循環(huán)，高。特別是真空帶脫水的底部濾液。水處理設(shè)備.實(shí)驗(yàn)室純水設(shè)備.工業(yè)純水設(shè)備